我国存储器基地项目位于武汉东湖高新区武汉未来科技城，以芯片制造环节为突破口，集存储器产品设计、技术研发、晶圆生产与测试、销售于一体。建成后，将带动设计、封装、制造、应用等芯片产业相关环节的发展，总产能将达到每月30万片，年产值将超过100亿美元，标志着芯片国产化之路将迈出可靠而重要的一步。

  我司凭借芯片领域多年的施工经验，成功中标我国存储器基地一期二标段特殊气体系统及一般气体配管工程，为我国芯片事业贡献力量。